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PVD/CVD基片加熱載臺
更新時間:2018-09-13 13:43:34 字號:T|T


1、產品用途
        適用于PVD/CVD等多種工藝制程??筛鶕に囘x配升降、旋轉功能,提高材料的生長質量。外殼配置水冷,長期工作安全******。
2、技術參數

適用基片 8"(另可選6"、12")
加熱溫度 800℃(更高溫度可定制)
溫度均勻性 600℃:±10
可耐真空度 ≤10-6Pa
升降功能 選配
旋轉功能 選配

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