歡迎來到成都華聚科技有限公司
028- 84601124
products
產品中心
Contact Us
聯系我們
你現在的位置:網站首頁 > 產品中心 > 半導體工藝設備 > PECVD等離子體增強化學沉積設備 > PECVD等離子體增強化學沉積設備
PECVD等離子體增強型化學氣相沉積設備
更新時間:2018-09-13 13:03:22 字號:T|T

1、產品用途
     本設備在硅片或光學玻璃等沉底材料上沉積半導體薄膜材料,可用于SiOx、 SiNx、 SiONx、a-Si、石墨烯等材料的制備,在微電子、新材料、新能源等方向有廣泛應用。通過穩定******的高精度真空機械手臂,將基片在工藝室和傳輸室間傳輸,實現工藝室不放大氣,連續生產。配置高性能等離子體,可根據客戶需求定制等離子體參數。
2、技術參數


基片尺寸 可選:4"、6"、8"、12"
極限真空度 5×10-1Pa (機械泵配置)
前級泵 可選:機械泵、干泵
加熱器 800℃,可選配升降及旋轉功能(更高溫度可定制)
工藝氣體 配3路MFC充氣,氣體種類可選,更多需求可定制
水路系統 采用進口水路檢測傳感器,實現各路水流量及溫度的監控
軟件控制 可編輯、儲存多種工藝配方,任意調用,適用于工藝研究
具備“一鍵啟動式(全自動)生產”功能,適用于小批量生產
賬戶分三級權限設置,提高系統安全性及工藝保密性
各種安全互鎖設計,防止誤操作
其他 如有其他特殊需求可定制
 


  • 上一篇:已經沒有了
  • 下一篇:已經沒有了
?
亚洲性人人天天夜夜摸